证券日报网讯 7月24日,聚光科技在互动平台回答投资者提问时表示,EXPEC 7350三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS/MS)采用全新的先进工艺设计和突破性的技术,可应用于高纯试剂,高纯金属,Si、CaAs晶片的超痕量杂质,光刻胶和清洗剂等高基体不稳定样品分析,分析能力成功突破了传统ICP-MS无法克服的干扰问题。ICP-MS/MS已成功构建覆盖高纯湿化学品、光刻胶、硅烷、晶圆体/表金属残留以及高纯石英材料等关键材料的痕量杂质分析检测整体解决方案体系。
(文章来源:证券日报)
本文标题: 聚光科技:ICP-MS/MS已成功构建覆盖高纯湿化学品、光刻胶等关键材料的痕量杂质分析检测整体解决方案体系
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